量子束缚效应对无结围栅纳米片NMOSFET耗尽区本征栅电容的影响分析
2025.05.19点击:
摘要:阐述采用Sentaurus TCAD对无结围栅纳米片NMOSFET耗尽区的本征栅电容仿真。通过对比分析包含与不包含量子束缚效应两种情况,研究了本征栅总电容、栅漏电容、栅源电容分别随沟道宽度、高度、掺杂浓度、栅源电压及漏源电压的变化规律。研究结果明确了量子束缚效应对本征栅电容特性的影响机制,所获结果可为无结围栅纳米片MOSFET耗尽区本征栅电容及相关电路提供量子修正依据。
关键词: 量子束缚效应;源/漏耗尽区;无结围栅纳米片MOSFET;本征栅电容;
基金资助: 浙江省教育厅科研项目(Y202456287);
专辑: 信息科技
专题: 无线电电子学
分类号: TN386
在线公开时间: 2025-05-18 11:25(知网平台在线公开时间,不代表文献的发表时间)
- 上一篇:Si衬底上转移单晶VO2薄膜及其电学性能分析 2025/5/19
- 下一篇:新型电力系统中的充电桩能效提升策略分析 2025/5/18