工艺参数对磁控溅射金属薄膜应力的影响分析
2026.07.08点击：
摘要：阐述磁控溅射金属薄膜工艺的特点，探讨磁控溅射工艺中的溅射功率、基底温度、溅射气压、基底偏压对薄膜应力的影响规律以及作用机理。分析工艺参数对金属薄膜应力的影响。
关键词： 磁控溅射;薄膜应力;溅射功率;工艺参数;
专辑： 信息科技;工程科技Ⅰ辑;工程科技Ⅱ辑
专题： 材料科学;工业通用技术及设备
分类号： TB383.2
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