集成电路芯片制造中的光刻工艺分析
2026.01.21点击：
摘要：阐述光刻工艺的基本原理、关键技术和应用案例。介绍光刻机、光刻胶的作用原理和技术特点，总结了光刻工艺的发展历程和最新进展。光刻技术的分辨率从微米级不断提升至纳米级，极大程度推动了集成电路制造能力的提升和产业的发展。
关键词： 集成电路;光刻工艺;光刻机;光刻胶;EUV光刻;
基金资助： 2024年安徽省高校科学研究项目(2024AH050874)；
专辑： 信息科技
专题： 无线电电子学
分类号： TN405
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