电子技术杂志社

摘要：阐述金属氧化物、硫族化合物、二维材料和其他新兴材料在导电桥接存储器（CBRAM）中的应用。指出这些材料良好的稳定性、可重复性和可扩展性，为CBRAM的应用提供了基础。

关键词： 导电桥接存储器;阻变层材料;金属氧化物;硫族化合物;二维材料;

专辑： 信息科技

专题： 计算机硬件技术

分类号： TP333